رابط بین سیلیکون و سیلیس. پودر سیلیکون با خلوص بالا دارای خواص سطحی خوبی است. در مقایسه با سطح مشترک سایر مواد نیمه هادی مربوط به لایه اکسید، رابط بین سیلیکون و دی اکسید سیلیکون عالی است. با پیشرفت تکنولوژی، کنترل عیوب رابط بهتر و بهتر می شود. به عنوان مثال، پس از بازسازی اتاق تمیز، تاثیر عیوب بسیار کم بوده است. در عین حال، هنگام تزریق ناخالصی ها، دی اکسید سیلیکون می تواند به عنوان یک لایه محافظ عمل کند و به طور موثر ناخالصی هایی مانند فسفر و بور را مسدود کند.
دوم این است که پودر سیلیکون با خلوص بالا یک ماده عایق بسیار پایدار است (فاصله انرژی آن حدود 9 EV است، نمی دانم درست به خاطر می آورم یا خیر)، در حالی که دی اکسید ژرمانیوم نه تنها در دماهای بالا ناپایدار است، بلکه محلول در اب. دی اکسید سیلیکون اصلاً چنین مشکلی ندارد. شکاف انرژی زیاد دی اکسید سیلیکون جریان نشتی آن را کوچکتر می کند (البته اگر لایه اکسید خیلی نازک باشد جریان نشتی افزایش می یابد).
در مقایسه با ژرمانیوم، پودر سیلیکون با خلوص بالا دارای شکاف انرژی بیشتری است و بنابراین می تواند دمای عملیاتی بالاتر و محدوده دوپینگ ناخالصی وسیع تری را تحمل کند. ولتاژ شکست مواد سیلیکونی نیز بیشتر خواهد بود. در گذشته دستگاه های نیمه هادی همگی از ژرمانیوم ساخته می شدند. فناوری بالغ بود و سرعت پاسخ سوئیچینگ سریعتر بود. با این حال، این مورد نیاز به هزینه بالایی دارد. سرمایه داران سیلیکون را انتخاب کردند، بنابراین بسیاری از دانشمندان شروع به پیشرفت در سیلیکون کردند. البته این به بسیاری از خواص عالی خود سیلیکون مانند ذخایر زیاد و عملکرد پایدار مربوط می شود. مزیت دیگر این است که سیلیس یک عایق طبیعی است و می تواند به طور مستقیم به عنوان یک لایه بین لایه پس از عملیات حرارتی استفاده شود.
پودر سیلیکون با خلوص بالا با محتوای سیلیکون 99٪ (2N)، 99.9٪ (3N)، 99.99٪ (4N) و اکسیژن، کربن، فسفر، گوگرد و ناخالصی های فلزی بسیار کم، که می تواند نیازهای فرآیندهای صنعتی را برآورده کند. الزامات ناخالصی نیاز، پر کردن شکاف در زمینه پودر سیلیکون صنعتی با خلوص بالا. آلیاژهای آلومینیوم، آلیاژهای تیتانیوم، آلیاژهای مس، نیترید سیلیکون با کارایی بالا و کربن...
